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3路浮子流量计可用于搭建CVD系统，也可为样品退火提供所需的气氛环境。
高温真空烧结炉KJ-V1700-12LC高温真空烧结炉适用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、有机物质灰化、质量检测之用，也适用于军工、电子、医药、特种材料等生产和实验。
五温区倾斜旋转管式炉主要用于无机化合物（矿粒和电池材料）的均匀烧结，是粉末冶金，陶瓷，耐火材料，锂电正负极材料，新能源等行业颗粒粉末烧成、煅烧，测定材料在一定气氛条件下的专业设备。
1600℃倾斜旋转管式炉每个温区分别由三个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成温度梯度或是形成较长的恒温区域。
耐高温真空泵该耐高温真空泵采用内置风扇和大面积散热的风冷设计，大幅度降低泵的表面温升；采用耐高温密封圈和耐高温泵油，更加适合真空管式炉的高温使用环境。
1200℃小型陶瓷纤维箱式热处理炉KJ-M1200-1LZ小型陶瓷纤维箱式热处理炉用于高温烧结工艺,如陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结
1600℃小型立式高温管式炉KJ-T1600-S5006LK1-L立式管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
硅碳棒广泛应用于电子、磁性材料、粉末冶金、陶瓷、玻璃、半导体、分析化验、科学研究等高温领域，成为隧道窑、辊道窑、玻璃窑炉、真空炉、马弗炉、冶炼炉以及各类加热设备的电加热元件。
1200°C三温区真空管式炉可供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用应用于半导体，纳米技术、碳纤维等新型材料新工艺领域，也可用于CVD镀膜。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
