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1400℃真空烧结炉KJ-V1400-16LGMO真空脱脂烧结炉主要用于高速钢、冷热作工模具钢、马氏体不锈钢、弹性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理、真空脱脂、真空钎焊和真空烧结等。
超声波喷涂炉系统KJ-T1200-PGEP 是一种多功能超声波喷涂炉系统，专为纳米材料的合成而设计。 三个主要子系统（超声波增强气溶胶发生器、管式炉和静电除尘器）用于三个过程，包括气溶胶产生、热分解和纳米粒子收集。 这样的系统实现了合成方法，可以控制粒度、形态和纳米/微观结构。
1200℃高温真空CVD设备高温真空CVD设备是一种特殊的高真空CVD系统，广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
高温智能箱式电阻炉箱式热处理炉以高温含钼电阻丝为加热元件，炉膛顶部有排气孔，用于生产过程中废气的排出，炉膛内部带有不锈钢材料制成的5层炉架，保证物料的充分受热。
1200℃石墨烯生长炉KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S石墨烯生长炉是一种特殊的CVD系统，是专门为在金属箔（像铜箔、铝箔等）上生长薄膜而设计，广泛应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究上，特别适用于碳纳米管、碳纳米线、石墨烯的生长。
1200℃真空钎焊炉43L该设备专门为金属器件真空钎焊设计，适用于铝、铜、不锈钢、高速钢、硬质合金和陶瓷等器件的真空钎焊，既可用于同种材料的真空钎焊，亦可用于不同材料之间的真空钎焊，还可用于各种金属材料或器件的正火、回火、退火等热处理工艺，广泛应用于汽车、电子、国防、航空、航天等领域的试验和中试环节。
2路浮子流量计可用于搭建CVD系统，也可为样品退火提供所需的气氛环境。
立式PECVD设备广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
1700℃箱式高温炉KJ-M1700-8LZ箱式高温炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
