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1000℃高温管式炉适用于实验室需要高温环境并需准确控制高温条件的各项科学研究。它可广泛应用于压电陶瓷、铁电超导材料、磁性材料、超硬材料等新型材料的合成和物料的快速烧结等实验。
混气管式PECVD系统 该设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层等领域。
(配置两种炉管)倾斜旋转管式炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火等
定制高温气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解， 应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料、石英材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
上进料三温区旋转管式炉KJ-TX900-H89LK3旋转管式炉最高温度可达900℃。它是多加热区设计，用于样品均匀加热，用户还可以设置温度梯度。可以连续处理样品。它非常适合材料研究、陶瓷研究实验室开发各种新材料。
真空烧结炉真空烧结炉是由主机、真空系统、水冷系统、电控系统和炉外运输车等组成。该高温真空炉主要用于多种材料的真空烧结，退火，回火等。
可滑动三温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验，是低成本快速热处理的理想设备。
1200℃三温区管式气氛炉KJ-T1200-S6012LK3三温区管式气氛炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，可处理直径小于270mm的半导体样片。主要应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 是各大材料实验室常备的理想设备之一。
1100℃水热循环测试炉KJ-1200T-H40-L水热循环测试炉是我们科佳电炉根据用户需求定制的一款水热循环测试设备。测温显示采用8通道无纸记录仪，温度数据可记录，水温测试采用的是高精度热电阻温度传感器，误差不超过0.15℃，配有高精度电磁流量计，可随时检测到进水流速。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
