产品中心
1200℃快速升温箱式电阻炉KJ-M1200-12LZ系列箱式电炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，从事电子元器件，新型材料及粉体材料的热处理研发工艺等。
流化床CVD系统主要用于物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺的研究。
1400℃带可视窗箱式炉此箱式炉适用于煤炭、焦化产品、化工原料的焦炭灰分(快灰慢灰)，供实验室、工矿企业、科研单位、院校作元素分析测定和一般小型钢件退火、回火等热处理时加热用，亦可用于工业生产行业烧结、加热、热处理。
箱式化学气相沉积系统应用于大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。广泛用于高等院校、科研单位、工矿企业进行：高温实验、材料烧结、成分分析，质量检测等热处理工作。
带混气系统三温区管式炉 KJ-T1200 CVD是具有80mm直径氧化铝管真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的管式炉，它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
1200℃实验箱式烧结炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
1600℃高温真空烧结炉KJ-V1600-12LW真空烧结炉主要供大专院校、科研单位针对无机材料在真空（或保护气氛）热压条件下进行烧结处理，以便获得高致密度的产品(如生产高精度氮化硅陶瓷轴承等）。
双炉体滑动管式炉KJ-T1200S-II滑动管式炉可以在真空、大气、空气等不同环境下加热样品。主要应用多种材料的快速退火、硅化、扩散、结晶、致密化等。
石英坩埚用于单晶硅棒的生产和光学玻璃的熔炼。耐温在1450度左右
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
