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触屏三温区管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、 材料成分测量场合。
三温区自动进出料旋转管式炉该旋转管式炉是一种具有特殊旋转和倾斜功能的高温反应器。 专为无机化合物的烧结而设计，如矿物颗粒和电池材料，具有更好的均匀性。 多加热区、冷凝器和尾气收集装置可根据不同实验选配。
1200℃RTP滑动式快速退火炉KJ-1200T-S6015LK1-H系列滑动式快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1700℃迷你型刚玉管式炉1700℃迷你管式炉可在空气环境下直接加热，刚玉炉管耐高温、抗氧化。适用于空气中开展的各类热处理实验，可用于粉体高温氧化、灼烧、热分解、空气烧结、矿石热分析、样品除碳等。
1200℃迷你管式炉1200℃迷你管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，主要用于材料合成、烧结、退火、催化反应等实验工艺。
三温区CVD设备此款三温区CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
双炉体CVD设备该双炉体CVD系统为定制款，适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
石墨加热真空碳管炉KJ-V220LW-G真空碳管炉是用石墨发热体的高温、高真空电阻炉。最高工作温度可达2000℃~2100℃。本系列产品广泛应用于无机材料（如陶瓷密封件、碳化硅、氧化锆、氧化锌、二氧化铝等）及金属材料（如硬质合金）在真空或保护气氛中烧结制备，也可用于稀土元素及其氧化物的提纯处理及蓝宝石退火处理。同时也适用于大专院校、科研单位进行中试批量生产使用。
1200℃高校实验坩埚炉KJ-V1200-LG高校实验坩埚炉主要用于高校、科研院所、工矿企业煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
