管式炉
催化剂流化床管式炉炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管为不锈钢金属管，立式开启式炉门结构，磨损管更换方便，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
1400度管式炉这款高温管式炉可以抽真空通气氛，真空度可达20pa，该设备是专门为需要特殊热处理工艺的材料而设计。
流化床立式管式炉KJ-T1200-V60是一款流化床立式管式炉，专门针对粉末表面沉积的CVD实验，炉管为高纯石英异形管，炉管内部嵌有一多孔石英板，石英板的孔径为0.2mm.粉末可放在多孔石英板上，气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。
触屏三温区管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、 材料成分测量场合。
三温区自动进出料旋转管式炉该旋转管式炉是一种具有特殊旋转和倾斜功能的高温反应器。 专为无机化合物的烧结而设计，如矿物颗粒和电池材料，具有更好的均匀性。 多加热区、冷凝器和尾气收集装置可根据不同实验选配。
1200℃RTP滑动式快速退火炉KJ-1200T-S6015LK1-H系列滑动式快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1200℃迷你型真空气氛管式炉1200℃迷你型真空气氛管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
双炉管四温区管式炉该设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术、碳纤维等新型材料新工艺领域。主要应用于企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。
生物质热解装置生物质热解机组采用半自动流水线方式，实现进料同时出料，可收集碳、生物质油等，尾端装有自动点火装置，进行成分测试接口和气体测量装置。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
